получить предложение
Химические соединения, доступные для термического и/или плазменного осаждения:
• Оксиды: HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5
• Нитриды: TiN, Si3N4
• Металлы: Ru, Pt
OpAL
Производство Oxford Instruments Plasma Technology

OpAL представляет собой уникальную для современного рынка систему
термического ALD с возможностью легкой модернизации до плазменного
процесса ALD и позволяет проводить оба вида осаждения в одной
компактной установке.
Химические соединения, доступные для термического и/или плазменного
осаждения:
- Оксиды: HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5
- Нитриды: TiN, Si3N4
- Металлы: Ru, Pt
Пользователи
продукции компании Oxford Instruments получают значительные выгоды,
благодаря гарантированному качеству поставляемых систем.
Контролируемость и повторяемость разработанных процессов в лаборатории
компании Oxford Instruments сохраняется и поддерживается на
оборудовании, установленном у пользователей.
• Типовая неравномерность менее ±2% на пластинах диаметром до 200 мм
• Отличное покрытие ступенчатых структур с высоким аспектным соотношением
• Получены высокие барьерные свойства тонких пленок
• Низкое содержание углерода в пленках Al2O3 (AES)
• Аморфный, не пористый Al2O3 (TEM)
• Отличная однородность пленок HfO2, < ±2% на пластинах диаметром 200 мм (спектроскопическая эллипсометрия)
Мощность в сочетании с интуитивно-понятным программным обеспечением Система OpAL, так же как и проверенное временем семейство систем Plasmalab®, программируется и управляется простым в использовании и позволяющим проводить быстрые цикличные процессы программным обеспечением PC2000TM.
Гарантированная международная поддержка пользователей
Компания Oxford Instruments предоставляет международную сервисную поддержку поставляемого оборудования и процессов.
• До 4-х источников жидких или твердых сред первичных компонент для напыления или нанесения
• Перчаточный ящик, продуваемый азотом, может быть совмещен с камерой загрузки для обеспечения отсутствия влаги
• Держатели пластин легко изымаются и устанавливаются, что уменьшает время чистки камеры
• Опционально устанавливается в систему и подключается к программному обеспечению спектроскопический эллипсометр для
контроля процесса осаждения
большей безопасности и защиты здоровья оператора
• Пневматический подъем дверцы камеры обеспечивает безопасное открытие системы
• Система может быть дополнена вытяжным
шкафом и перчаточным ящиком с азотной продувкой для обеспечения большей безопасности и защиты здоровья оператора
Особенности разработанных процессов в прикладной лаборатории компании Oxford Instruments:
• Типовая неравномерность менее ±2% на пластинах диаметром до 200 мм
• Отличное покрытие ступенчатых структур с высоким аспектным соотношением
• Получены высокие барьерные свойства тонких пленок
• Низкое содержание углерода в пленках Al2O3 (AES)
• Аморфный, не пористый Al2O3 (TEM)
• Отличная однородность пленок HfO2, < ±2% на пластинах диаметром 200 мм (спектроскопическая эллипсометрия)
Мощность в сочетании с интуитивно-понятным программным обеспечением Система OpAL, так же как и проверенное временем семейство систем Plasmalab®, программируется и управляется простым в использовании и позволяющим проводить быстрые цикличные процессы программным обеспечением PC2000TM.
Гарантированная международная поддержка пользователей
Компания Oxford Instruments предоставляет международную сервисную поддержку поставляемого оборудования и процессов.
Уникальные достоинства системы
• До 4-х источников жидких или твердых сред первичных компонент для напыления или нанесения
• Перчаточный ящик, продуваемый азотом, может быть совмещен с камерой загрузки для обеспечения отсутствия влаги
• Держатели пластин легко изымаются и устанавливаются, что уменьшает время чистки камеры
• Опционально устанавливается в систему и подключается к программному обеспечению спектроскопический эллипсометр для
контроля процесса осаждения
Безопасность системы
• Корпус системы может быть оснащен системой азотной продувки для обеспечениябольшей безопасности и защиты здоровья оператора
• Пневматический подъем дверцы камеры обеспечивает безопасное открытие системы
• Система может быть дополнена вытяжным
шкафом и перчаточным ящиком с азотной продувкой для обеспечения большей безопасности и защиты здоровья оператора
Дополнительные возможности системы OpAL
Благодаря возможности обработки образцов размером от малых кусков пластин до пластин диаметром 200 мм, система способна решать как академические, так и промышленные опытно-конструкторские задачи.Дополнительные возможности с использованием источника плазмы
Применение удаленного источника плазмы позволяет применять широчайший спектр первичных химических соединений и добиваться более высокого качества пленок. С применением плазмы удается проводить процесс при низкой температуре подложки, а удаленность источника плазмы позволяет снизить дефектность.Химические соединения, доступные для термического и/или плазменного осаждения:
• Оксиды: HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5
• Нитриды: TiN, Si3N4
• Металлы: Ru, Pt



