получить предложение
Стандартные процессы, реализуемые на системе FlexAL:
FlexAL
Производство Oxford Instruments Plasma Technology
Семейство систем FlexAL компании Oxford Instruments Plasma
Technology предоставляет новые возможности в разработке
наноразмерных структур и приборов,
реализуя процессы атомно-слоевого осаждения с удаленной
плазмой и термическое ALD в составе одной системы.
- Максимальная гибкость в выборе материалов и подложек
- Низкотемпературные процессы, обусловленные плазменным процессом
- Низкая дефектность, обусловленная удаленным источником плазмы
- Контролируемый и управляемый процесс через программный интерфейс с набором команд
Стандартные процессы, реализуемые на системе FlexAL:
- Осаждение Al2O3 в процессе с удаленной плазмой при температурах вплоть до комнатной
- Плазменный процесс ALD HfO2
- Термический процесс ALD HfO2
- Осаждение TiN в процессе с удаленной плазмой
• Способность обработки от малых кусков пластин до пластин диаметром 200 мм
• Шлюзовая загрузка пластин для обеспечения безопасности, малого числа частиц пыли и малого времени запуска процесса
• Уникальная система доставки первичных компонент процесса с системой прецизионного контроля их температуры, обеспечиваемой обдуваемой печью и оптимизированными подогреваемыми линиями доставки компонент процесса
• Интегрированный перчаточный ящик для оперативных манипуляций
• Интегрированные порты для установки контролирующих эллипсометров
• Занимаемая площадь не более 2х2 м, даже при наличии максимального числа модулей первичной подготовки
• Возможность интеграции в кластерные системы, включая Oxford Instruments Plasmalab®System100 для проведения дополнительных операций осаждения и травления
• Поддержка глобальной сети продаж и обслуживания компании Oxford Instruments; в составе популярной платформы PlasmalabSystem100 система FlexAL подтверждает свою надежность более чем в 300 установленных системах по всему миру
• Разработка системы проводилась при консультациях мировых лидеров в области атомно-слоевого осаждения из Европы, Кореи и США
• Технология лицензирована ASM International NV
• Шлюзовая загрузка пластин для обеспечения безопасности, малого числа частиц пыли и малого времени запуска процесса
• Уникальная система доставки первичных компонент процесса с системой прецизионного контроля их температуры, обеспечиваемой обдуваемой печью и оптимизированными подогреваемыми линиями доставки компонент процесса
• Интегрированный перчаточный ящик для оперативных манипуляций
• Интегрированные порты для установки контролирующих эллипсометров
• Занимаемая площадь не более 2х2 м, даже при наличии максимального числа модулей первичной подготовки
• Возможность интеграции в кластерные системы, включая Oxford Instruments Plasmalab®System100 для проведения дополнительных операций осаждения и травления
• Поддержка глобальной сети продаж и обслуживания компании Oxford Instruments; в составе популярной платформы PlasmalabSystem100 система FlexAL подтверждает свою надежность более чем в 300 установленных системах по всему миру
• Разработка системы проводилась при консультациях мировых лидеров в области атомно-слоевого осаждения из Европы, Кореи и США
• Технология лицензирована ASM International NV
Система атомно-слоевого осаждения FlexAL доступна в следующих конфигурациях:
• FlexALRPT позволяет проводить процессы
термического ALD и ALD с удаленным источником плазмы в составе одной системы, предоставляя широкий выбор первичных компонент осаждения и проводимых процессов
• FlexALRPX предоставляет широчайший выбор
первичных компонент осаждения и проводимых процессов, позволяет проводить процессы термического ALD и ALD с удаленным источником плазмы, имеет в своем составе максимальное число модулей доставки
первичных компонент осаждения и позволяет проводить высокотемпературные
процессы до 700 °С
• FlexALRPT позволяет проводить процессы
термического ALD и ALD с удаленным источником плазмы в составе одной системы, предоставляя широкий выбор первичных компонент осаждения и проводимых процессов
• FlexALRPX предоставляет широчайший выбор
первичных компонент осаждения и проводимых процессов, позволяет проводить процессы термического ALD и ALD с удаленным источником плазмы, имеет в своем составе максимальное число модулей доставки
первичных компонент осаждения и позволяет проводить высокотемпературные
процессы до 700 °С
