Silylated Photoresist - силилированный фоторезист
Сухая обработка силилированного резиста (ИСП-РИТ).
Рис. Технология ИСП-РИТ.
Технология:
- Индуктивно-связанная плазма-
Реактивное ионное травление
- Независимый контроль энергии ионов и плотности тока ионов
- Эффективное охлаждение подложки
Результаты:
Скорость: ~ 150 нм/мин
Неравномерность: + 4% (150 мм пластина)
Профиль: анизотропный
Оборудование:
Plasmalab 80 Plus
Plasmalab System 100/ 133
травление произведено в лаборатории OPT, Yatton/UK
Рис. 2.
Рис. 3.
Рис. 4. Plasmalab System 100 с загрузочным шлюзом и ИСП источником.
- Индуктивно-связанная плазма-
Реактивное ионное травление
- Независимый контроль энергии ионов и плотности тока ионов
- Эффективное охлаждение подложки
Результаты:
Скорость: ~ 150 нм/мин
Неравномерность: + 4% (150 мм пластина)
Профиль: анизотропный
Оборудование:
Plasmalab 80 Plus
Plasmalab System 100/ 133
травление произведено в лаборатории OPT, Yatton/UK
Рис. 2.
Рис. 3.
Рис. 4. Plasmalab System 100 с загрузочным шлюзом и ИСП источником.