Архив новостей

In collaboration with ISMI, the technology and applications teams at Oxford Instruments Plasma Technology
have coated 450mm silicon wafers with PECVD SiO2 – a world first. The wafers were processed using the
recently launched Oxford Instruments PlasmaPro® NGP®1000 PECVD system, which is capable of coating
single wafer substrates up to 450mm diameter or larger batches of smaller diameter wafers.

    Поздравляем Вас с наступающими Новым Годом и Рождеством!
    Желаем счастья и успехов в Новом Году, удачи и в делах, и в личной жизни!
Пусть каждый день нового 2011 года приносит Вам только радость и прибавляет уверенности в безоблачном будущем!
    Коллектив TechnoInfo Ltd. всегда готов помочь в реализации Ваших самых смелых планов!

    Добрых Вам праздников!

As part of our commitment to customer support at Oxford Instruments we offer a programme of Process Training Courses. The courses enable your engineers to spend time with qualified Application Engineers from Oxford Instruments, with the objective of understanding and optimising the performance of your Oxford Instruments system. Our engineers not only know the systems, but understand our customers' individual requirements.

Для дополнительной информации, пожалуйста, свяжитесь с нами по адресу plasma -на- technoinfo.ru

Oxford Instruments-TDI, a world leader in the development of Hydride Vapour Phase Epitaxy (HVPE) processes and techniques for the production of novel compound semiconductors such as GaN, AlN, AlGaN, InN, InGaN, has just entered into a licensing agreement with The Fox Group. This agreement is for the acquisition of certain intellectual property, allowing Oxford Instruments-TDI to offer hardware and processes for the production of light emitting devices (LEDs) and p doped layers, in addition to the hardware and process already offered for the growth of III-Nitride materials.

Oxford Instruments Plasma Technology is providing outstanding benefits for HBLED manufacturers, with the launch of the PlasmaPro™ NGP®1000 HBLED range of plasma etch and deposition tools. Unparalleled throughput with industry leading batch sizes from 61 x 2” wafers  up to 7 x 6” wafers, coupled with high quality device performance and yield, means that Oxford Instruments is able to provide customers with an exceptional HBLED production offering.

Oxford Instruments и Школа Электроники и Компьютерных наук университета Southampton заключили соглашение о сотрудничестве в области научных исследований.

Oxford Instruments установили 10 своих систем в Центре Нанотехнологий университета Southampton, на которых работает исследовательская группа Центра. Технологи компании Oxford Instruments также будут иметь возможность использовать это и другое оборудование.
 
Такое взаимодействие позволит увеличить количество процессов, предлагаемых компанией Oxford Instruments своим заказчикам.

Установленные системы: FlexAL (атомно-слоевое осаждение), Ionfab300Plus (ионно-лучевая установка), Plasmalab System400 (установка для магнетронного распыления), Plasmalab System80Plus (установка для реактивного ионного травления), Nanofab1000 (установка для выращивания наноструктур), System100 PECVD (плазменное осаждение) и System100 (установки плазменного травления с источником ИСП380).

Компания Technoinfo Ltd рада сообщить, что Oxford Instruments Plasma Technology расширяет сервис поддержки пользователей новыми гибкими предложениями относительно запасных частей и гарантии на системы.

Возможно расширение функциональности и повышение экономичности уже запущенных систем за счёт следующих дополнений и улучшений: режим  ожидания для сухих вакуумных насосов, улучшение газового стенда, улучшение определения конца цикла в процессе, широкий набор улучшений для системы контроля и многое другое...

Oxford Instruments Plasma Technology (OIPT) недавно разработала новую функцию для использования систем с "сухими" насосами, которая называется "N2 Standby Mode". Данная функция позволит сэкономить энергию и азот, используемый системами плазменного травления, нанесения и роста. Первоначально системы с "сухими" насосами потребляли постоянно 35 литров азота в минуту, но азот в таких количествах нужен только когда в камере находятся газы для проведения процессов.
 
Dry Pump N2 Standby Mode представленный недавно компанией OIPT  позволит экономить до 96% газообразного азота, находясь в режиме ожидания, в сравнении с использованием во время проведения процессов. Помимо снижения влияния на окружающую среду данное нововведение позволяет существенно снизить затраты.